Новости науки и техники

[Touring]

Китайский производитель оборудования SMEE такой же интегратор как ASML, и ему нужны сторонние решения, чтобы включать их в свои продукты.

У чисто китайских компаний-поставщиков таких решений нет, так как в конечном счёте всё начинается с фундаментальной науки, а китайская ещё слабая и занимается тематикой недавно. И даже если данные китайские фирмы что-то простое и делают, то всё ключевое обрабатывающее оборудование у них не китайское, и опыта выпуска отлаженных продуктов мало.

Поэтому SMEE берёт источник японской Gigaphoton, оптику немецкой Zeiss и остальные позиции, так и получается 90 нм "китайский" литографический сканер.

Экономика производства у SMEE сомнительная, так как основной клиент на её установки китайская же SMIC (оборот 4.4% от всей отрасли в мире), и то далеко не вся, и даже не существенная её часть, потому что сделать SMIC тестовой лабораторией незрелых китайских технологий значит убить товарный выпуск пластин и чипов, который нужен Хуавею здесь и сейчас, и та не может себе этого позволить.

Что до 28 нм установок, то для выхода на элемент ниже 57 нм кроме совершенной оптической части нужна иммерсия в воде, более точная система совмещения, и спец. сфоторезист. Пока китайская SMEE такую только анонсирует, и переносит срок выхода даже не серийных установок, а технологических прототипов, и неспроста, потому что нужно решение сложных задач, с чем проблемы (ASML и её партнёры-поставщики, а также стоящая за ними европейская и американская наука, успешно решили их). При том что и источник и оптика в этой экспериментальной и постоянно переносимой 28 нм установке как и всё остальное ключевое, по доступным данным, не китайское. То есть, у SMEE проблемы даже с интеграцией.

И это только один сканер, пусть и ключевой, а всего установок нужно даже не десять.

 

[Touring]

Подтверждение тому что вся китайская «автономная» литография это липа есть в свежем немецком аналитическом обзоре.

----------------------------

В марте 2023-го года Financial Times процитировала менеджера одного из китайских производителей микросхем, который сказал, что «домашняя литография от SMEE предназначена для исследований и опытов, а не для промышленных компаний. Это оборудование только теоретически пригодно к использованию, и ни один производитель чипов не станет ставить такую машину в работу на своих фабриках».

Это соответствуют мнениям, которыми с авторами поделились контакты в отрасли. Поскольку литографические машины SMEE, судя по всему, почти не используются китайскими фабриками, их бумажные технические характеристики и производительность имеют малое значения, они не подтверждены практикой.

Иммерсионная 28 нм DUV установка SSA800/10 от SMEE на ArF лазере еще не поступила в производство, несмотря на несколько лет постоянных заявлений о том, что поступит к концу такого-то года.

Даже анонсированная ранее более простая SMEE SSA600/20, на ArF лазере, под 90 нм процесс, по-видимому, не имеет никакой рыночной значимости. Как отмечалось выше, компания опубликовала результаты испытаний производительности прототипа SSA600/10 (предшественника SSA600/20) в далёком 2011-м. В 2024-м, спустя 13 лет, продажи этой установки, похоже, незначительны, если вообще были, поскольку сообщается, что она вообще не используется китайскими фабриками для крупносерийного производства.

Предполагается, что несколько экспериментальных SSA600/20 были переданы SMIC, YMTC, CXMT и другим китайским производителям для тестового использования. Один отраслевой инсайдер (за пределами Китая) отмечает, что «было отправлено только несколько штук SSA600, поэтому SMEE не имела возможности вносить улучшения, необходимые для выхода её за рамки сырого прототипа».

Еще одним показателем того, что SSA600/20 от SMEE не готова для коммерческого производства, являются растущие продажи схожего с ней по бумажным характеристикам оборудования ASML в Китай. Чистые продажи ASML туда выросли с 1.54 млрд евро в 2018 году до 6.36 млрд евро в 2023-м. С 2019 года, по данным SEMI, были анонсированы или запустили производство в Китае как минимум 22 новых фабрики на процессы 90-180 нм (предполагаемая область применения SSA600/20). Их инвесторы охотно закупали бы национальные литографические инструменты, но, похоже, тех просто нет в природе.

Ещё один показатель, в ноябре 2023 года японская Nikon объявила, что выпустит новую модель установки с i-line лампой и процессом на 220-350 нм, специально предназначенную для китайского рынка, которая будет соответствовать новым правилам экспортного контроля Японии.

Состояние разработок некоторых поставщиков компонентов для SMEE только подтверждает картину, описанную выше. Например, Beijing U-Precision Technology была создана в 2012 году для проведения работ по "Специальному проекту 02". Формально, она разработала стол для для литографического оборудования, и поставляет его SMEE, однако его совместимость с литографическими машинами SMEE в китайской прессе подвергалась сомнению. Этот пример типичен для разрозненного и бюрократизированного подхода в Китае, в последние два десятилетия, он, как отмечалось выше, критиковался китайскими же комментаторами, включая менеджеров и должностных лиц, анонимно цитируемых в иностранных СМИ.

Согласно документам первичного публичного предложения акций (IPO) U-Precision от третьего квартала 2023 года, стол для иммерсионной ArF-литографии на рабочие 14-57 нм остается у неё на этапе разработки.

По сути, существует очень и очень большой разрыв между экспериментальными установками, которые есть в малом количестве, и инструментами для крупносерийного производства, которых нет. По словам одного китайского инсайдера, должен измениться весь подход, который китайская промышленность и власти применяют к решению задач. Его персональный рецепт заключается в том, чтобы сосредоточить разрабатываемое оборудование на одной «реальной» производственной линии, ради систематического решения проблем, и ради итеративного прогресса, при этом для начала целью является пригодная к промышленному использованию 90-нм литографическая установка.