Новости науки и техники

Китайский производитель оборудования SMEE такой же интегратор как ASML, и ему нужны сторонние решения, чтобы включать их в свои продукты.

У чисто китайских компаний-поставщиков таких решений нет, так как в конечном счёте всё начинается с фундаментальной науки, а китайская ещё слабая и занимается тематикой недавно. И даже если данные китайские фирмы что-то простое и делают, то всё ключевое обрабатывающее оборудование у них не китайское, и опыта выпуска отлаженных продуктов мало.

Поэтому SMEE берёт источник японской Gigaphoton, оптику немецкой Zeiss и остальные позиции, так и получается 90 нм "китайский" литографический сканер.

Экономика производства у SMEE сомнительная, так как основной клиент на её установки китайская же SMIC (оборот 4.4% от всей отрасли в мире), и то далеко не вся, и даже не существенная её часть, потому что сделать SMIC тестовой лабораторией незрелых китайских технологий значит убить товарный выпуск пластин и чипов, который нужен Хуавею здесь и сейчас, и та не может себе этого позволить.

Что до 28 нм установок, то для выхода на элемент ниже 57 нм кроме совершенной оптической части нужна иммерсия в воде, более точная система совмещения, и спец. сфоторезист. Пока китайская SMEE такую только анонсирует, и переносит срок выхода даже не серийных установок, а технологических прототипов, и неспроста, потому что нужно решение сложных задач, с чем проблемы (ASML и её партнёры-поставщики, а также стоящая за ними европейская и американская наука, успешно решили их). При том что и источник и оптика в этой экспериментальной и постоянно переносимой 28 нм установке как и всё остальное ключевое, по доступным данным, не китайское. То есть, у SMEE проблемы даже с интеграцией.

И это только один сканер, пусть и ключевой, а всего установок нужно даже не десять.
 
Последнее редактирование:
Реклама
Подтверждение тому что вся китайская «автономная» литография это липа есть в свежем немецком аналитическом обзоре.

----------------------------

В марте 2023-го года Financial Times процитировала менеджера одного из китайских производителей микросхем, который сказал, что «домашняя литография от SMEE предназначена для исследований и опытов, а не для промышленных компаний. Это оборудование только теоретически пригодно к использованию, и ни один производитель чипов не станет ставить такую машину в работу на своих фабриках».

Это соответствуют мнениям, которыми с авторами поделились контакты в отрасли. Поскольку литографические машины SMEE, судя по всему, почти не используются китайскими фабриками, их бумажные технические характеристики и производительность имеют малое значения, они не подтверждены практикой.

Иммерсионная 28 нм DUV установка SSA800/10 от SMEE на ArF лазере еще не поступила в производство, несмотря на несколько лет постоянных заявлений о том, что поступит к концу такого-то года.

Даже анонсированная ранее более простая SMEE SSA600/20, на ArF лазере, под 90 нм процесс, по-видимому, не имеет никакой рыночной значимости. Как отмечалось выше, компания опубликовала результаты испытаний производительности прототипа SSA600/10 (предшественника SSA600/20) в далёком 2011-м. В 2024-м, спустя 13 лет, продажи этой установки, похоже, незначительны, если вообще были, поскольку сообщается, что она вообще не используется китайскими фабриками для крупносерийного производства.

Предполагается, что несколько экспериментальных SSA600/20 были переданы SMIC, YMTC, CXMT и другим китайским производителям для тестового использования. Один отраслевой инсайдер (за пределами Китая) отмечает, что «было отправлено только несколько штук SSA600, поэтому SMEE не имела возможности вносить улучшения, необходимые для выхода её за рамки сырого прототипа».

Еще одним показателем того, что SSA600/20 от SMEE не готова для коммерческого производства, являются растущие продажи схожего с ней по бумажным характеристикам оборудования ASML в Китай. Чистые продажи ASML туда выросли с 1.54 млрд евро в 2018 году до 6.36 млрд евро в 2023-м. С 2019 года, по данным SEMI, были анонсированы или запустили производство в Китае как минимум 22 новых фабрики на процессы 90-180 нм (предполагаемая область применения SSA600/20). Их инвесторы охотно закупали бы национальные литографические инструменты, но, похоже, тех просто нет в природе.

Ещё один показатель, в ноябре 2023 года японская Nikon объявила, что выпустит новую модель установки с i-line лампой и процессом на 220-350 нм, специально предназначенную для китайского рынка, которая будет соответствовать новым правилам экспортного контроля Японии.

Состояние разработок некоторых поставщиков компонентов для SMEE только подтверждает картину, описанную выше. Например, Beijing U-Precision Technology была создана в 2012 году для проведения работ по "Специальному проекту 02". Формально, она разработала стол для для литографического оборудования, и поставляет его SMEE, однако его совместимость с литографическими машинами SMEE в китайской прессе подвергалась сомнению. Этот пример типичен для разрозненного и бюрократизированного подхода в Китае, в последние два десятилетия, он, как отмечалось выше, критиковался китайскими же комментаторами, включая менеджеров и должностных лиц, анонимно цитируемых в иностранных СМИ.

Согласно документам первичного публичного предложения акций (IPO) U-Precision от третьего квартала 2023 года, стол для иммерсионной ArF-литографии на рабочие 14-57 нм остается у неё на этапе разработки.

По сути, существует очень и очень большой разрыв между экспериментальными установками, которые есть в малом количестве, и инструментами для крупносерийного производства, которых нет. По словам одного китайского инсайдера, должен измениться весь подход, который китайская промышленность и власти применяют к решению задач. Его персональный рецепт заключается в том, чтобы сосредоточить разрабатываемое оборудование на одной «реальной» производственной линии, ради систематического решения проблем, и ради итеративного прогресса, при этом для начала целью является пригодная к промышленному использованию 90-нм литографическая установка.
 
Последнее редактирование:
Экономика производства у SMEE сомнительная, так как основной клиент на её установки китайская же SMIC (оборот 4.4% от всей отрасли в мире)
Учитывая объемы отрасли, 4,4% это очень не мало.
Что же касается всего остального.... будем посмотреть.
Пока Китай по литографии далеко не в лидерах, но работы в этом направлении они ведут весьма активно, и введенные санкции являются однозначным индикатором успехов.

Что же касается пренебрежительного отношения к науке в Китае - в части аккумуляторов они в лидерах По управляемому термояду то же.
Да и пример европейского суперпроекта ( ИТЭР) явно перетекающего в стадию "лохотрон" указывает, что китайской бюрократии далеко до европейской
 
Последнее редактирование:
Что же касается пренебрежительного отношения к науке в Китае - в части аккумуляторов они в лидерах По управляемому термояду то же.
Кстати, с 12 февраля "лидеры" по тому параметру "управляемого термояда", по которому китайцы держали рекорд, уже французы.

 
Пока Китай по литографии далеко не в лидерах, но работы в этом направлении они ведут весьма активно, и введенные санкции являются однозначным индикатором успехов.Что же касается пренебрежительного отношения к науке в Китае - в части аккумуляторов они в лидерах
Они не то что не в лидерах в литографическом оборудовании, а пока ничего в нём не могут. И это понимают те кто его санкционирует. Санкции введены не из-за их пока сырых собственных разработок с бумажными параметрами, а чтобы ограничением поставок DUV и EUV оборудования ASML и Nikon/Canon в Китай замедлить выпуск товарных чипов на тонких процессах, и не дать рыночно расти использующему их Хуавею.

По статусу их науки нужной для создания литографического оборудования, это выводы самой китайской профильной науки о себе. Молодцы, осознание реального положения начало пути к успеху.

По аккумуляторам, в этой узкой области похоже уже есть собственная китайская наука. LiFePO4 они допилили до приличной плотности энергии, и когда базовый патент Гуденау на него вышел по срокам, запустили в массовое производство, в основном под рынок Китая, где она в силу доминирующего климата не показывает своих минусов, в том числе начали массово поставлять на экспорт.
 
Последнее редактирование:
Они не то что не в лидерах в литографическом оборудовании, а пока ничего в нём не могут. И это понимают те кто его санкционирует. Санкции введены не из-за их пока сырых собственных разработок с бумажными параметрами, а чтобы ограничением поставок DUV и EUV оборудования ASML и Nikon/Canon в Китай замедлить выпуск товарных чипов на тонких процессах, и не дать рыночно расти использующему их Хуавею.
Вот только санкции касаются НЕ только литографического оборудования целиком, но и лазеров 13,5 нм.
Т.е. разговор идет не о торможении Хуавея, а о торможении проекта литографии "поднебесной". При чем литографии "технологий переднего края"
 
По аккумуляторам, в этой узкой области похоже уже есть собственная китайская наука.
не бывает "собственной науки в области....."
Наука она или есть или ее нет. Далее лишь вопрос в каких областях она вышла на лидирующие позиции, а в каких несколько отстает.
 
Они не то что не в лидерах в литографическом оборудовании, а пока ничего в нём не могут.
А это совсем не говорит о том, что в ближайшем будущем годная к промышленному применению литография у них не появится. Скорее наоборот, это говорит о стадии лечения детских болезней у существующей промышленной линейки литографов. Вы ссылаетесь на отчеты 23го года, которые вполне могли быть построены на информации 22го года. А сейчас 25ый на носу.
 
Мне довольно безразлично что у китайцев есть а что нет. Я по старой привычке интересуюсь темой, так как это было специализацией моего факультета, могу поэтому отделить то что писал пропагандист который не понимает от того что писал человек в теме. Увы шапкозакидательная пропаганда от "нубов" почти везде, и это печально.

Перед китайцами те же проблемы что и перед Планаром и его смежниками, преодоление отставания в 40 лет в накопленных знаниях и опыте (последний массовый литограф Планара ЭМ-584А это примерный уровень ASML 1986-го, PAS 2500/10, причём у ASML и заявленные и фактические параметры ощутимо лучше), с отличием в том что Планар и эти его поставщики решений всё-таки делали установки когда-то массово работавшие в промышленности, а китайцы нет.

Преодолевается оно систематической работой всех вовлечённых, от интегратора до его поставщиков решений, и ниже по цепочке к поставщикам решений уже для них, и ускоряется кроме вливания денег привлечением знающих людей. Сроков конкретных преодоления тут нет, может быть 5 лет а может 25.
 
Последнее редактирование:
Реклама
А я не говорю, что этот отчет 23го года не верен. Просто это ситуация 2-3 летней давности, а хотелось бы знать ситуацию на сегодня.
 
Если в 23-м был не фонтан то с чего в 25-м вдруг будет всё шикарно. Обычно такие вещи делаются итерационно, с опорой на уже сложившиеся научные и конструкторские коллективы, и на отработку технологии до готовности к производству у потенциальных клиентов, а результаты открыто и предметно демонстрируются всей отрасли, иначе как доказать серьёзность претензий нового игрока. Как пример, история ASML и её первого реального продукта.

-------------------------

Многие из инноваций Philips были рождены в её Natlab (сокращение от Philips Natuurkundig Laboratorium — физическая лаборатория Philips), крупном исследовательском центре, также расположенном в Эйндховене. В 1975 году там работало более 2,000 человек, и Natlab сравнивали с Bell Labs компании AT&T в США. Ее исследования не ограничивались разработкой продуктов для Philips, и включали в себя фундаментальные исследования в области электроники.

В 1970-х годах Philips производила полупроводники через свою дочернюю компанию Elcoma (Electronic Components and Materials). В 1975 году компания приобрела Signetics, основанную сотрудниками Fairchild Semiconductor в 1961-м, её приобретение сделало Philips вторым по величине производителем в мире. И если вы производите полупроводники в больших объемах, то у вас есть есть большой интерес и к машинам, которые нужны для их производства.

История ASML тесно связана с технологиями Philips, и всё началось с разработки в её Natlab первого фотоповторителя, машины, которая перемещала кремниевую пластину так, чтобы изображение могло многократно проецироваться на нее с помощью оптического механизма, удерживаемого над пластиной.

Два инженера Natlab, Герман ван Хик и Гейс Боухейс, увидев, насколько неэффективна была контактная литография в Elcoma, в мае 1971 года предложили данный подход руководству Philips, а также дали новой машине название, кремниевый повторитель, хотя общепринятое для этого типа, шаговый повторитель, или же степпер.

Потребовалось более двух лет, чтобы разработать технологию и построить первую работающую машину, известную как Silicon Repeater 1, или сокращённо SiRe 1, она была завершен инженерами Natlab в конце 1973 года.

Далее, команда под руководством Стива Виттекука усовершенствовала SiRe 1, назвав результат SiRe 2, и ключевым, фундаментальным изменением стала работа с кремниевой пластиной. Теперь повторитель мог измерять и быстро корректировать не только её местоположение, но и вращение, что в свою очередь означало что оптическая колонна, нависающая над пластиной, могла оставаться неподвижной.

Однако, была и фундаментальная проблема, гидравлика её привода в SiRe 2, использование которой означало масло под давлением. Попавшее в сверхчистую атмосферу фабрики при утечке, оно означало катастрофу, и клиенты считали это огромным риском. Поэтому, инженеры Natlab начали разрабатывать альтернативу, систему с шаговыми электродвигателями, приводящими в действие механизм, который перемещает пластины.

Разработка SiRe изначально была исследовательским проектом, но к 1978 году пришло время его коммерциализации. Это означало передачу его бизнес-подразделению Philips под названием Science and Industry (S&I). Его возглавлял Вим Троост, который стал ключевым сторонником разработки шаговых электродвигателей в Philips в последующие годы. Передача была отнюдь не простой, со столкновением культур между двумя частями империи Philips: если Natlab сосредотачивалась на исследованиях и разработках, то S&I на производстве. Машина, переданная Троосту, имела неполную документацию, поэтому команде S&I предстояло проделать большую работу, чтобы подготовить ее к массовому производству.

У Natlab была передовая технология лазерных интерферометров, дававшая большую точность позиционирования, чем у конкурентов Philips, хотя и с серьезным недостатком в виде применения для позиционирования гидравлики. Однако, у нее не было никакого присутствия на рынке за пределами дочерних компаний конгломерата Philips, в то время как другие поставщики продали уже сотни машин. Вдобавок, для продаж SiRe 2 внешним клиентам потребовалось и адекватное коммерческое название, поэтому она была переименована в PAS 2000 (PAS = Philips Automatic Stepper).

Заставить SiRe 2 работать достаточно хорошо, чтобы поставить его в IBM, было непросто. Чтобы добиться нужного прогресса, Троосту пришлось привлечь команду Natlab для совместной работы с собственной, из S&I. Машина была наконец доставлена в IBM, на несколько недель позже первоначально согласованного срока, 1 июля 1982 года.

Между тем, в 1982 году Philips начала программу по продаже непрофильных видов бизнеса. Кремниевый повторитель, с его текущими проблемами, скептицизмом со стороны её Elcoma и отсутствием быстро достижимых перспектив значимых внешних продаж, стал одним из первых продуктов, от которых она решила избавиться. В конечном итоге, в марте 1984 года была создана ASML, как совместное предприятие Philips и ASM International (ASMI). Philips была огромным электронным конгломератом, который начал тогда испытывать финансовые трудности, ASMI была гораздо меньшим, но быстрорастущим поставщиком оборудования для производства полупроводников.

Каждая из двух фирм стала владеть 50% новой фирмы, теперь называемой ASM Lithographic Systems B.V. или ASML, и каждая вносила по 2.1 млн долларов в это совместное предприятие. Однако, была загвоздка. Только ASMI вложила эту сумму в новую компанию наличными, тогда как Philips учитывала в виде своего вклада технологию повторителя, и физические активы, а именно 17 машин PAS 2000, большинство из которых тогда находились в стадии производства. 47 сотрудников S&I переводились из Philips в новую компанию, получив возможность в течение следующих четырех лет вернуться, если у ASML что-то не получится. Также, кроме денежных средств, ASMI вносила свой маркетинговый опыт, продаж производственного оборудования клиентам по всему миру.

Итак, у ASML кроме Elcoma был всего один внешний клиент, IBM, с образцом PAS 2000 у него на испытаниях. IBM была не совсем довольна им, но скорость машины её впечатлила, и она захотела, чтобы ASML исправила все недостатки. Поэтому, та разработала график разработки преемника, который должен был называться PAS 2500. Первые его рабочие прототипы планировалось поставить к 1 января 1986 года, а через шесть месяцев он должен был быть готов к массовому производству.

При планировании разработки PAS 2500 команда ASML осознала, что им нужно сделать разрыв с подходами, которые использовались в Philips в прошлом, ведь им потребовалось почти десятилетие, чтобы пройти путь от первого кремниевого повторителя SiRe в 1973 году, до первой поставки PAS 2000 клиенту в 1982-м. Нужно было радикально ускорить разработку новой модели, и выбранный ими способ заключался в том, чтобы делать все параллельно. Они разделили новую машину на подсекции, которые можно было бы разрабатывать отдельно, и приступили к созданию пяти её прототипов одновременно. Это был дорогостоящий подход, но он сократил время, необходимое для разработки, на несколько лет.

Если ASML хотела была стать коммерчески успешным бизнесом, ей нужно было заменить масляную гидравлику привода на систему с шаговыми электродвигателями. К счастью, Philips NatLab имела такую в разработке, однако права на неё не были включены в контракт. Данная проблема вскоре была решена, Philips согласилась права на неё за довольно скромную сумму в 930,000 долларов.

Однако, руководство ASML вскоре поняло, что есть еще одна проблема, и она состояла в том что PAS 2000 опиралась на оптику от парижской фирмы CERCO с несколькими высокоточными линзами, фокусирующими изображение чипа на кремниевой пластине. В течение многих лет Philips полагалась в этом плане именно на CERCO, и строила с ней тесные отношения. Системы, предоставляемые той, в целом были достаточно хороши, но по мере уменьшения размера элементов на пластинах требовались более качественные. Основной конкурент ASML, американская GCA David Mann, использовала оптику, производимую немецкой Carl Zeiss, и её качество было основным преимуществом продукции GCA.

Для действительной конкурентоспособности, ASML нуждалась в лидерской оптике. Во время визита представителей ASML в CERCO французская фирма запросила крупную сумму денег вперёд на поддержку разработки нового поколения линз, с более высокими характеристиками, чем предыдущие, и это стало последней каплей для руководства ASML. Было принято решение перейти на Zeiss, и PAS 2000 был последней машиной, использовавшей оптику от CERCO. PAS 2500 от ASML будет использовать Zeiss, и это стало началом тесных отношений между двумя фирмами, которые длятся до сегодняшнего дня.

Первый PAS 2500 покинул Вельдховен 7 мая 1986 года, чтобы отправиться на выставку SEMICON West в Сан-Матео, Калифорния, где в день своего публичного показа сумел проэкспонировать 500 кремниевых пластин. Он обеспечивал минимальный размер элемента в 0.9 микрон, используя источник в виде газоразрядной ртутной лампы с рабочим спектральным пиком на длине волны 436 нм (g-line).

Второй PAS 2500 был доставлен в Elcoma, для использования в проекте MegaChip, который был попыткой Европы начать конкурировать с США и Японией в производстве чипов, и создать микросхемы памяти емкостью в 1 мегабит. Инженеры ASML, работая в Elcoma, продолжали вносить усовершенствования в конструкцию и интенсивно работать, чтобы сделать машину действительно готовой к широкомасштабному производству.

К середине 1986 года ASML наконец-то получила первую реально конкурентоспособную установку, и начала приобретать платежеспособных клиентов за пределами группы Philips. Начав с небольшого количества поставок в 1984 и 1985 годах модели PAS 2000, с выходом в серию PAS 2500 в 1986 году, продажи ASML начали резко расти, и она начала возвращать вложения в разработку, постепенно выходя на безубыточность деятельности.

796ab32a-7df6-45d3-91d6-3ac806f23703_2550x1288.png
 
Последнее редактирование:
И что в итоге с гидравликой? Современные высокоточные приводы гидравлические или электромеханические?
 
Мне довольно безразлично что у китайцев есть а что нет.
И это печально
Потому как из за этого вместо обсуждения дня сегодняшнего Вы старательно скатываетесь в 70-е - 80-е.
Однако с тех времен уже почти полвека минуло.
Пытаетесь доказать что Китай в литографии не лидер?
А с этим разве кто то спорит???
Да, сейчас они анонсировали 35 нм (что пятикратно уступает серийным образцам ASML, и к тому же является по сути макетом)
Сколь ни будь отлаженные работоспособные серийные образцы у них скорее всего добрались до 90 нм.
В этом году обещают пустить в серию 35нм, и это огромное достижение, хотя это по сути будет только начало обкатки и отладки.
Тем ни менее в эти точности огни уже зашли, и преуменьшать этот факт явно не стоит.
 
Подтверждение тому что вся китайская «автономная» литография это липа есть в свежем немецком аналитическом обзоре.

----------------------------

В марте 2023-го года Financial Times процитировала менеджера одного из китайских производителей микросхем, который сказал, что «домашняя литография от SMEE предназначена для исследований и опытов, а не для промышленных компаний. Это оборудование только теоретически пригодно к использованию, и ни один производитель чипов не станет ставить такую машину в работу на своих фабриках».

Это соответствуют мнениям, которыми с авторами поделились контакты в отрасли. Поскольку литографические машины SMEE, судя по всему, почти не используются китайскими фабриками, их бумажные технические характеристики и производительность имеют малое значения, они не подтверждены практикой.

Иммерсионная 28 нм DUV установка SSA800/10 от SMEE на ArF лазере еще не поступила в производство, несмотря на несколько лет постоянных заявлений о том, что поступит к концу такого-то года.

Даже анонсированная ранее более простая SMEE SSA600/20, на ArF лазере, под 90 нм процесс, по-видимому, не имеет никакой рыночной значимости. Как отмечалось выше, компания опубликовала результаты испытаний производительности прототипа SSA600/10 (предшественника SSA600/20) в далёком 2011-м. В 2024-м, спустя 13 лет, продажи этой установки, похоже, незначительны, если вообще были, поскольку сообщается, что она вообще не используется китайскими фабриками для крупносерийного производства.

Предполагается, что несколько экспериментальных SSA600/20 были переданы SMIC, YMTC, CXMT и другим китайским производителям для тестового использования. Один отраслевой инсайдер (за пределами Китая) отмечает, что «было отправлено только несколько штук SSA600, поэтому SMEE не имела возможности вносить улучшения, необходимые для выхода её за рамки сырого прототипа».

Еще одним показателем того, что SSA600/20 от SMEE не готова для коммерческого производства, являются растущие продажи схожего с ней по бумажным характеристикам оборудования ASML в Китай. Чистые продажи ASML туда выросли с 1.54 млрд евро в 2018 году до 6.36 млрд евро в 2023-м. С 2019 года, по данным SEMI, были анонсированы или запустили производство в Китае как минимум 22 новых фабрики на процессы 90-180 нм (предполагаемая область применения SSA600/20). Их инвесторы охотно закупали бы национальные литографические инструменты, но, похоже, тех просто нет в природе.

Ещё один показатель, в ноябре 2023 года японская Nikon объявила, что выпустит новую модель установки с i-line лампой и процессом на 220-350 нм, специально предназначенную для китайского рынка, которая будет соответствовать новым правилам экспортного контроля Японии.

Состояние разработок некоторых поставщиков компонентов для SMEE только подтверждает картину, описанную выше. Например, Beijing U-Precision Technology была создана в 2012 году для проведения работ по "Специальному проекту 02". Формально, она разработала стол для для литографического оборудования, и поставляет его SMEE, однако его совместимость с литографическими машинами SMEE в китайской прессе подвергалась сомнению. Этот пример типичен для разрозненного и бюрократизированного подхода в Китае, в последние два десятилетия, он, как отмечалось выше, критиковался китайскими же комментаторами, включая менеджеров и должностных лиц, анонимно цитируемых в иностранных СМИ.

Согласно документам первичного публичного предложения акций (IPO) U-Precision от третьего квартала 2023 года, стол для иммерсионной ArF-литографии на рабочие 14-57 нм остается у неё на этапе разработки.

По сути, существует очень и очень большой разрыв между экспериментальными установками, которые есть в малом количестве, и инструментами для крупносерийного производства, которых нет. По словам одного китайского инсайдера, должен измениться весь подход, который китайская промышленность и власти применяют к решению задач. Его персональный рецепт заключается в том, чтобы сосредоточить разрабатываемое оборудование на одной «реальной» производственной линии, ради систематического решения проблем, и ради итеративного прогресса, при этом для начала целью является пригодная к промышленному использованию 90-нм литографическая установка.
Весь пафос о том, что китайцы
Они не то что не в лидерах в литографическом оборудовании, а пока ничего в нём не могут.
Основан на вышеприведенной статейке? Почему немецкой обзор можно доверять?
 
Весь пафос о том, что китайцы

Основан на вышеприведенной статейке? Почему немецкой обзор можно доверять?
Вы про обзор, который заканчивается 1988 годом?
Лично мне куда интереснее зачем он в верке "новости науки и техники"
 
Основан на вышеприведенной статейке? Почему немецкой обзор можно доверять?
как насчет доверять информации (включая фотографию, которая не имеет отношения к тексту) от Sergey-nn, которая основана на неподтвержденной информации (слухи?) размещенной в социальной сети X ссылкой на неопределенный китайский источник (пропаганда?)
Немного подробнее о китайской разработке в области литографии
 
Последнее редактирование:
Назад